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VPO-300快速退火炉快速退火炉(RTP/RTA)是半导体材料和器件常用的一款工艺设备。快速退火炉可以在真空、惰性气氛、不同的工艺气体环境下使用。VPO-30...
RTP-150快速退火炉升温速度:150摄氏度每秒,可以用于大6英寸晶圆或者156mm x 156mm尺寸样品热处理。RTP-150可以支持惰性气体保护、低真空...
RTP-100快速退火炉升温速度:150摄氏度每秒,可以用于大4英寸晶圆或者100mm x 100mm尺寸样品热处理。RTP-100可以支持真空或高真空热处理。
RTP-1200快速退火炉该仪器:尺寸小巧,使用风冷、无须水冷,电流要求不高(3安培),性价比高,使用方便,非常适合科研院所的科研使用。
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